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- Die Ionenstrahllithografie, oftmals abgekürzt Ionenlithografie, ist in der Halbleitertechnik ein Verfahren zur Herstellung einer strukturierten dünnen Schicht, die als Opferschicht für nachfolgende Abscheidungs-, Ätzungs- und Implantationsprozesse genutzt wird (vgl. Fotolithografie). Das Verfahren bildet zusammen mit der sehr ähnlichen Elektronenstrahllithografie die Gruppe der Teilchenstrahllithografien. (de)
- Ion-beam lithography is the practice of scanning a focused beam of ions in a patterned fashion across a surface in order to create very small structures such as integrated circuits or other nanostructures. (en)
- Ионно-лучевая литография (англ. ion beam lithography) — технология изготовления электронных микросхем, использующая литографический процесс с экспонированием (облучением) резиста ионными пучками нанометрового сечения. (ru)
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- Die Ionenstrahllithografie, oftmals abgekürzt Ionenlithografie, ist in der Halbleitertechnik ein Verfahren zur Herstellung einer strukturierten dünnen Schicht, die als Opferschicht für nachfolgende Abscheidungs-, Ätzungs- und Implantationsprozesse genutzt wird (vgl. Fotolithografie). Das Verfahren bildet zusammen mit der sehr ähnlichen Elektronenstrahllithografie die Gruppe der Teilchenstrahllithografien. (de)
- Ion-beam lithography is the practice of scanning a focused beam of ions in a patterned fashion across a surface in order to create very small structures such as integrated circuits or other nanostructures. (en)
- Ионно-лучевая литография (англ. ion beam lithography) — технология изготовления электронных микросхем, использующая литографический процесс с экспонированием (облучением) резиста ионными пучками нанометрового сечения. (ru)
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- Ionenstrahllithografie (de)
- Ion beam lithography (en)
- Ионно-лучевая литография (ru)
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